德國海德堡激光直寫系統－DWL66激光直寫光繪系統，是海德堡公司考慮到客戶低成本投入，及增加與客戶互動關系理念下所設計的機臺，雖價格不高，但他仍然維持了高精密的光繪品質，在微影技術與光學領域的研究發展上都獲得了客戶相當的滿意口碑。同時重接單到持續增加中，更證明了DWL66系統的設計開發理念，用*小的花費提升*高的附加價值。

技術參數：

加工零件尺寸：150X150mm

繪圖頭焦距 Write Lens	2mm	4 mm	10 mm	20 mm	40 mm
*小線寬或間距 Minimum Feature	0.6um	1µm	2.5 µm	5 µm	10 µm
書寫格網 Write Grid	20nm	40 nm	100 nm	200 nm	400 nm
CD均勻度 CD Uniformity	80nm	100 nm	220 nm	440 nm	880 nm
線寬均勻度 Line width Uniformity	100 nm	200 nm	400 nm	600 nm	1000 nm
線邊粗糙度 Edge Roughness	60 nm	80 nm	120 nm	180 nm	280 nm
對準精度 Alignment Accuracy	200 nm	250 nm	500 nm	1 µm	2 µm
定位精度 Position Accuracy	0.4 um	0.6 µm	1 µm	1.5 µm	2 µm
讀寫時間 Writing time ( 80x80 mm)	70 hour	19 hour	3 hour	0.9 hour	0.3 hour

Applications 應用范圍
該激光圖形發生系統用于涂有光刻膠的各種基片，玻璃，硅片，或其他平面材料。
RETICLE（分劃板），ASICS（晶片），MEMS（微機電系統），SENSOR（傳感器），
REFRACTIVE OR DIFFRACTIVE OPTICS(折射及衍射光學), MOEMS(微光機電),
MCMS, HYBRIDS, INTEGRETED OPTICS（集成光學）, µTAS，SAW ect.

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